【williamhill官网 2020年11月8日讯】分析师指出，美国商务部上月甫将6项新兴技术列为“对美国国家安全至关重要”的出口管制项目，恐重创北京半导体野心。华府更严格的出口管制新规涵盖芯片制造两项关键技术，即用于极紫外光（EUV）应用的运算式微影软件、五纳米IC晶圆生产技术，这对北京当局在先进半导体制造领域欲追赶上西方的目标形成新阻碍。
据《自由时报》引述香港《南华早报》报导，美国新管制的技术还包括电脑数控工具、数位取证工具、捕获和分析通讯和后设资料的软件、次轨道太空船，还扩大了“瓦圣纳协议”对军民两用产品和技术的管制范围，该协议缔约国包括美国、荷兰等42国，旨在管制常规武器和军民两用等敏感技术输往中国。
研调机构Forrester分析师戴鲲指出，中国已被列入禁运国家的名单内，阻碍其进入全球生产体系；中国在电脑、航太、芯片研发和制造等许多领域的技术发展和民间生产，持续面临严峻挑战。
美国新管制的半导体技术“用于制造EUV光罩的运算式微影软件”，为先进7纳米制程节点的关键技术；另一项为最先进的5纳米生产节点技术，全球只有台积电有能力实现生产。
研究机构以赛亚报告指出，北京自主研发的微影软件“只能支援80或90纳米”制程，中芯国际在使用美国设备下可在14纳米节点生产芯片，今年恐无法实现10纳米制程；且中国短期可能无法跨越关键障碍，包括微影和蚀刻的核心技术分别由荷兰艾司摩尔（ASML）、美国应用材料和科林研发掌控。
Dechert法律事务所合伙人达菲分析认为，任何涉及输往中国、具国安或军事用途的军民两用技术，都“非常不可能”取得美国出口许可证。
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