英特尔华裔工程师偷资料判刑两年

星岛日报报道,11日被判刑的为三十一岁马来西亚华侨欧西来(Say Lye Ow),辛尼维尔市居民,曾任英特尔公司工程师。今年三月十四日被联邦大陪审团控以三项在九八年离开英特尔前偷窃该公司的Itanium处理器的商业秘密罪名,一项非法复印英特尔公司商业秘密罪名。欧氏于九月承认罪名,至11日宣判。

欧氏昨被联邦地方法院法官Jeremy Fogel判处入狱两年及刑满后监管行为两年。欧氏需于明年一月十五日向联邦监狱报到,开始服刑。法官并下令将欧氏用来复印英特尔公司商业秘密的电脑充公。

根据北加州联邦助理检察官Matthew Jacobs透露,欧氏在离职前偷取英特尔的商业秘密,是用作自已转到升阳公司Sun Microsystems工作时的私人利益。检控官Ross Nadel表示,并没有证据显示升阳其他人士知道欧氏该项罪行。

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